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  • Claisse LeNeo 全自动电熔融制样机

    ClaisseLeNeo单头全自动熔融制样机,可为XRF分析提供熔融玻璃片制样,同时也可以为AA和ICP分析提供硼酸盐和过氧化物等前处理的解决方案。

  • Claisse The OX 全自动6头电加热熔融制样机

    ClaisseTheOX公牛全自动6头电加热熔融制样机,可以帮助你制备用于AA、ICP、湿法化学分析的溶液以及制备玻璃片进行XRF分析。多产且功能强大,6个熔融工位,每小时可以进行24-30次熔融。

  • Claisse M4 全自动燃气熔融制样机

    ClaisseM4型全自动燃气熔融制样机,坩埚倾斜旋转,可以修改熔融参数:温度、混合速度、坩埚倾斜角度、冷却操作持续时间等,M4™熔融仪具有三个熔融工位,采用燃气加热。本款全自动仪器用于制备XRF分析用玻璃熔片,以及AA和ICP分析用溶液,加热均匀,确保获得可重复的准确结果。M4仪器维护成本Z低。

  • 全自动台式双样品熔融系统

    仪器特点: 提供Z优的操作环境,炉体外壁与环境无温差; 主动或被动样品冷却方式,样品常温进常温出; 全自动程序控制,可以设定多达50种熔片程序; 可自动添加辅助熔剂; 不需要燃气,冷却水和压缩空气

  • 帕纳科 双样品熔融系统

    帕纳科全自动台式双样品熔融系统: 提供Z优的操作环境,炉体外壁与环境无温差; 主动或被动样品冷却方式,样品常温进常温出; 全自动程序控制,可以设定多达50种熔片程序; 可自动添加辅助熔剂; 不需要燃气,冷却水和压缩空气

  • 荧光光谱分析专用全自动熔样机

    荧光光谱分析专用全自动熔样机: 提供Z优的操作环境,炉体外壁与环境无温差; 主动或被动样品冷却方式,样品常温进常温出; 全自动程序控制,可以设定多达50种熔片程序; 可自动添加辅助熔剂; 不需要燃气,冷却水和压缩空气

  • 双样品熔融炉熔融法

    双样品熔融炉熔融法: 提供Z优的操作环境,炉体外壁与环境无温差; 主动或被动样品冷却方式,样品常温进常温出; 全自动程序控制,可以设定多达50种熔片程序; 可自动添加辅助熔剂; 不需要燃气,冷却水和压缩空气

  • 双样品熔融炉

    帕纳科双样品熔融炉: 提供Z优的操作环境,炉体外壁与环境无温差; 主动或被动样品冷却方式,样品常温进常温出; 全自动程序控制,可以设定多达50种熔片程序; 可自动添加辅助熔剂; 不需要燃气,冷却水和压缩空气

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